Izsmidzināšana

· Izsmidzināšana

Bombardējot ar augstas enerģijas daļiņām uz cietas virsmas, daļiņas uz cietās virsmas var iegūt enerģiju un izkļūt no virsmas, un uz substrāta nogulsnētās izsmidzināšanas fenomenu sāka izmantot plēves pārklājuma tehnoloģijā 1870. gadā, un pakāpeniski tika izmantots rūpnieciskā ražošana pēc 1930. gada palielināta nogulsnēšanās ātruma dēļ, parasti materiāls, kas nogulsnēts plāksnes mērķī, piestiprināts pie katoda Substrāts tiek novietots uz anoda tieši pretī mērķa virsmai, dažus centimetrus tālāk no mērķa, sistēma tiek sūknēta augstā vakuumā un pēc tam piepilda ar 10–1 pa gāzi (parasti argonu). Starp katodu un anodu tiek pielikts vairāku tūkstošu voltu spriegums, un starp poliem rodas kvēlizlāde. Izvadiet pozitīvos jonus elektriskā laukā, iedarbojoties uz katodu, un mērķa virsmas atomu sadursme, sadursme izbēgt no mērķa virsmas mērķa atoma, ko sauc par izsmidzināšanas atomu, enerģija diapazonā no 1 līdz desmitiem elektronu voltu Izsmidzinošs atoms substrāta virsmas nogulsnēšanas plēvē ar dažādu iztvaikošanas pārklājumu, izsmidzināšanas pārklājums, ko neierobežo membrānas materiāla kušanas temperatūra, Ta izputināšana WC Mo WC TiC un citu ugunsizturīgu vielu izsmidzināšanas savienojumu plēvi var izmantot ar reaktīvās izsmidzināšanas metodi, tas ir, reakcijas gāze (ON HS CH u.c.), kas pievienota Ar gāzei, reakcijas gāze un tās joni un mērķa atomi vai izsmidzināšanas atomi reaģē uz rada savienojumus (piemēram, oksīda nitrīdu utt.) un uzklāj uz pamatnes. Uzklāto izolācijas plēvi var izmantot ar augstfrekvences izsmidzināšanas metodi Mērķa substrāts zemējuma elektrodā, izolācija uzstādīta pretējā elektrodā Augstas frekvences jauda ir iezemēta vienā galā, galu ar saskaņošanu. tīkls un līdzstrāvas kapacitāte, kas saņemta piepildīta ar izolācijas plāksni izolācijas elektrodu, kas savienots ar augstfrekvences barošanas avotu, augstfrekvences spriegumu mainošas polaritātes elektronu un pozitīvo jonu plazmas sprieguma pozitīvajā pusciklā un negatīvajā pusciklā attiecīgi līdz mērķa izolācijai, jo elektronu kustīgums ir augstāks nekā pozitīvajam jonam, izolējošā mērķa virsma ar negatīvu lādiņu, dinamiskā līdzsvarā, mērķis ir negatīvā nobīdes potenciālā, tā ka pozitīvais jonu izsmidzināšana uz mērķa turpina izmantot magnetronu izputināšanu var padarīt nogulsnēšanās ātrumu nekā nemagnetrona izsmidzināšana palielinās gandrīz par lielumu

Uzņēmums IKS PVD, dekoratīvās pārklāšanas mašīna, instrumentu pārklāšanas mašīna, DLC pārklāšanas mašīna, optiskā pārklāšanas mašīna, PVD vakuuma pārklājuma līnija, ir pieejams pabeigts projekts. Sazinieties ar mums tūlīt, e-pasts:iks.pvd@foxmail.com