Kvēlizlādes un loka izlādes raksturlielumu salīdzinājums

Kvēlizlādes un loka izlādes raksturlielumu salīdzinājums

3. tabulā parādīts izlādes raksturlielumu salīdzinājums starp kvēlizlādi un loka izlādi. Var saprast, ka PVD un CVD izstrādā loka izlādes pārklājuma tehnoloģiju, jo loka izlāde var uzlabot plazmas blīvumu pārklāšanas procesā.

▲ 3. tabula Kvēlizlādes un loka izlādes raksturlielumu salīdzināšanas tabula

No 3. tabulas redzams, ka loka izlādes izlādes strāvas blīvums ir daudz lielāks nekā kvēlizlādes gadījumā, kas liek metāla plēves slāņa atomiem jonizēties vairākos jonos, kurus pievelk apstrādājamā priekšmeta negatīvā nobīde. paātrinās līdz sagatavei un kļūst par augstas enerģijas plēves daļiņām.

Jona enerģijas vienība ir elektronvolts, ko apzīmē ar "eV". Tas ir saistīts ar temperatūru šādā formulā, 1eV ir vienāds ar šīs vielas enerģiju pie 11600K.

1 ev materiāls 1,16 x 104 k

Vakuuma iztvaicēšanas un karstās CVD tehnoloģijās plēves daļiņu temperatūra, kas sasniedz sagatavi, ir 1000K ~ 2000K, un tās enerģija ir ekvivalenta 0,1eV ~ 0,2eV. Tomēr jonu jauda, ​​kas sasniedz sagatavi jonu pārklājuma vidējā plēvē, var sasniegt 1 eV ~ 100 eV, un tā nozīme ir ļoti augsta, un to ir viegli nogulsnēt. TiN nogulsnēšanās temperatūra ar PVD palīdzību samazinājās no 1000 grādiem līdz 500 grādiem ~ 200 grādiem.

Uzņēmums IKS PVD, dekoratīvās pārklāšanas mašīna, instrumentu pārklāšanas mašīna, DLC pārklāšanas mašīna, optiskā pārklāšanas mašīna, PVD vakuuma pārklājuma līnija, ir pieejams pabeigts projekts. Sazinieties ar mums tūlīt, e-pasts: iks.pvd@foxmail.com