Iztvaicēšana PVD vakuuma pārklājums
May 18, 2021| iztvaikošanas PVD vakuuma pārklājums
Vielas iztvaikošanu, karsējot, lai to nogulsnētu uz cietas virsmas, sauc par iztvaikošanas pārklājumu. Šo metodi M. Faraday pirmo reizi ierosināja 1857. gadā, un tā ir kļuvusi par vienu no mūsdienās visbiežāk izmantotajām pārklāšanas metodēm.
Iztvaicēšanas materiālu, piemēram, metālu un savienojumu, ievieto tīģelī vai piekar pie karstās stieples kā iztvaicēšanas avotu, un tīģeļa priekšā novieto apšuvēja sagataves substrātu, piemēram, metālu, keramiku un plastmasu. Pēc tam, kad sistēma ir sūknēta augstā vakuumā, tīģeli uzkarsē, lai iztvaikotu tajā ietilpsto materiālu. Iztvaikojušā materiāla atomus vai molekulas nogulsnē uz substrāta virsmas kondensējot. Filmu biezums var būt no dažiem simtiem angstromu līdz vairākiem mikroniem. Plēves biezumu nosaka pēc iztvaikošanas ātruma un iztvaikošanas avota laika (vai pēc materiāla daudzuma) un attāluma starp avotu un substrātu. Liela laukuma pārklājumam bieži izmanto rotējošu substrātu vai vairākus iztvaikošanas avotus, lai nodrošinātu plēves biezuma viendabīgumu. Attālumam no iztvaikošanas avota līdz substrātam jābūt mazākam par tvaika molekulu vidējo brīvo ceļu atlikušajā gāzē, lai izvairītos no ķīmiskas mijiedarbības, ko izraisa tvaika molekulu un atlikušo gāzu molekulu sadursme. Tvaika molekulu vidējā kinētiskā enerģija ir aptuveni 0,1 ~ 0,2 elektronu volti.
IKS PVD uzņēmums, dekoratīvo pārklājumu mašīna, instrumentu pārklāšanas mašīna, optiskā pārklājumu mašīna, PVD vakuuma pārklājuma līnija, ir pieejams pagrieziena atslēgas projekts. Sazinieties ar mums tagad, e-pasts: iks.pvd@foxmail.com