PECVD plazmas uzlabotā ķīmiskā tvaiku pārklāšana
Apr 16, 2024| PECVD{0}}Plazmas uzlabota ķīmiskā tvaiku nogulsnēšanās
Plazma: gāze noteiktos apstākļos ar augstas enerģijas ierosmi, jonizāciju, daļa no ārējiem elektroniem no kodola, veidojot elektronu, pozitīvo jonu un neitrālu daļiņu maisījumu, kas sastāv no formas, šo formu sauc par plazmas stāvokli ir ceturtais stāvoklis .

Uzņēmums IKS PVD, dekoratīvās pārklāšanas mašīna, instrumentu pārklāšanas mašīna, DLC pārklāšanas mašīna, optiskā pārklāšanas iekārta, PVD vakuuma pārklājuma līnija, ir pieejams pabeigts projekts. Sazinieties ar mums tūlīt, e-pasts: iks.pvd@foxmail.com
←
Pāri: Kā darbojas PECVD
Nākamo: traucējumu efekts KRĀSA
→
Nosūtīt pieprasījumu


