PVD pārklājuma zināšanu ieviešana
Mar 06, 2019| PVD pārklājuma zināšanu ieviešana
IKS PVD ， iks.pvd @ foxmail.com
PVD (fizikālā tvaiku uzklāšana): process, kurā atoms vai molekula tiek pārnesta no avota uz substrāta virsmu, izmantojot fizikālo procesu. Tās uzdevums ir padarīt dažas no īpašajām īpašībām (augsta izturība, nodilumizturība, siltuma izkliede, izturība pret koroziju utt.) Ar matricu ar zemāku veiktspēju, lai matricai būtu labāka veiktspēja. PVD pamatmetodes: vakuuma iztvaikošana, izsmidzināšana, jonu pārklāšana (dobu katodu jonu pārklāšana, karstā katoda jonu pārklāšana, loka jonu pārklāšana, reaktīvā jonu pārklāšana, RF jonu pārklāšana, dc izlādes jonu pārklāšana)
PVD tehnoloģija radās, gatavojot plānas plēves ar augstu cietību, zemu berzes koeficientu, labu nodilumizturību un ķīmisko stabilitāti un citas priekšrocības. Sākotnēji veiksmīgs pielietojums ātrgaitas tērauda instrumentu jomā ir piesaistījis lielu rūpniecību visā pasaulē. Izstrādājot augstas veiktspējas un augstas uzticamības pārklājuma iekārtas, cilvēki ir veikuši arī padziļinātu izpēti par pārklājuma pielietojumu cementētajos karbīda un keramikas darbarīkos. Salīdzinot ar CVD procesu, PVD procesa temperatūra ir zema, zem 600 ℃, kad griešanas rīka materiāla lieces izturība; Filmas iekšējais slodzes stāvoklis ir saspiešanas spriegums, kas ir vairāk piemērots cementēta karbīda precizitātes un sarežģītu instrumentu pārklāšanai. PVD procesam nav negatīvas ietekmes uz vidi atbilstoši mūsdienu zaļās ražošanas attīstības virzienam. Pašlaik PVD pārklājuma tehnoloģija ir plaši izmantota karbīda endmill, urbjmašīnu, pakāpienu urbšanas, eļļas urbumu, griezēju, krānu, indeksējamu frēzmašīnu, virpošanas asmens, speciālas formas griezēja, metināšanas griezēja un tā tālāk apstrādei.
PVD tehnoloģija ne tikai uzlabo saķeres spēju starp plāno plēves un instrumentu matricas materiālu, bet arī attīsta pārklājuma kompozīciju no pirmās paaudzes TiN līdz TiC, TiCN, ZrN, CrN, MoS2, TiAlN, TiAlCN, alvas, CNx, DLC un ta-c uc [2]
Pastiprināta magnētiski kontrolēta katoda loka: katoda loka tehnoloģija ir pabeigt plāno plēves materiālu nogulsnēšanos vakuuma apstākļos, sadalot mērķa jonu stāvokli zemas sprieguma un augstās strāvas apstākļos. Uzlabota elektromagnētiskā katoda loks var efektīvi kontrolēt loku uz mērķa materiāla virsmas, izmantojot elektromagnētiskā lauka mijiedarbību, lai materiāla jonizācijas ātrums būtu augstāks un filmas veiktspēja ir labāka.
Filtrēta katoda loka: filtrēta katoda loka (FCA) elektromagnētiskā filtrēšanas sistēma, kas aprīkota ar augstu efektivitātes jonu avotu, var tikt veidota ar makroskopiskām daļiņām plazmā un jonu masas filtrā, pēc nogulsnes daļiņu jonizācijas filtra filtrēšanas ir 100% un var filtrēt izņemiet lielākas daļiņas, tāpēc plēves sagatavošana ir ļoti kompakta un gluda, ar labu korozijas izturību un ķermeņa adhēzijas stiprība ir ļoti spēcīga.
Magnetronu izsmidzināšana: vakuuma vidē mērķa bombardēšanu veic ar jonizētiem inertu gāzu joniem, apvienojot sprieguma un magnētiskā lauka darbību, kā rezultātā mērķis tiek izspiests jonu, atomu vai molekulu formā un nogulsnēts uz substrāta, lai veidotos filmu. Atkarībā no izmantotā jonizācijas avota gan mērķa materiāli, gan vadi un bezvada materiāli var tikt izsmidzināti.
Jonu staru DLC: ogļūdeņraža gāze jonizē jonu avotā plazmā. Elektromagnētiskā lauka kombinētās darbības rezultātā no jonu avota izdalās oglekļa joni. Jonu staru enerģiju kontrolē, pielāgojot plazmai pieslēgto spriegumu. Ogļūdeņražu jonu staru kūlis ir vērsts uz substrātu, un nogulsnēšanas ātrums ir proporcionāls jonu strāvas blīvumam. Zvaigznes loka pārklājuma jonu staru avots ir augstspriegums, tāpēc jonu enerģija ir lielāka, kas padara plēvi un substrātu labu saķeri. Lielāka jonu strāva padara DLC plēves nogulsnes ātrumu ātrāku. Galvenā jonu staru tehnoloģijas priekšrocība ir tā, ka tā var nogulsnēt ultra-plānas un daudzslāņu struktūru, procesa kontroles precizitāte var sasniegt vairākas angstrēmas, un procesa daļiņu piesārņojuma radītie defekti var tikt samazināti.
