Ķīmiskā tvaiku iztvaikošana (CVD)
May 02, 2024| Ķīmiskā tvaiku iztvaikošana (CVD), tas attiecas uz gāzes fāzes reakciju augstā temperatūrā.
Piemēram, metālu halogenīdu, metālorganisko savienojumu, ogļūdeņražu uc termiskā sadalīšanās, ūdeņraža reducēšana vai tā maisījuma gāzu bioķīmiskas reakcijas paņēmiens augstā temperatūrā, lai izgulsnētu neorganiskus materiālus, piemēram, metālus, oksīdus, karbīdus utt.
Šis process galvenokārt attiecas uz gāzes fāzes reakciju augstākā temperatūrā, un to plaši izmanto karstumizturīgu materiālu slāņos, augstas tīrības pakāpes metālu ražošanā un pusvadītāju plēvju ražošanā.
Uzņēmums IKS PVD, dekoratīvās pārklāšanas mašīna, instrumentu pārklāšanas mašīna, DLC pārklāšanas mašīna, optiskā pārklāšanas iekārta, PVD vakuuma pārklājuma līnija, ir pieejams pabeigts projekts. Sazinieties ar mums tūlīt, e-pasts: iks.pvd@foxmail.com