Elektronu staru iztvaikošanas pielietojums

Elektronu staru iztvaikošana - TiO 2 plēves sagatavošana, iztvaicējot elektronu staru

Pārklājuma principa elektronu starojuma iztvaikošana TiO 2 plēves sagatavošanai, izmantojot automātisko optiskā pārklājuma sistēmu INTEGRITY-39 ar elektronu staru kūļa iztvaicēšanu, kā parādīts attēlā zemāk.

0010010 nbsp; 1. Dzesēšanas ūdens ieplūde; {{{2}}. Dzesēšanas ūdens izplūde; 3. Tīģelis; 4. Sijas spole; 5. Elektronu staru raidītājs; 6. Apsildes lampa; 7. Pamatnes rāmis; 8. Motors; 9. Monitoringa filma; 1 0. Ar jonu avotu pārklāšanu sagatavota elektronu lielgabala darba spriegums ir 1 0 kV, strāva ir {{2}} 00 A, un vakuuma kameras nosēšanās temperatūra ir 1 45 ~ 1 55 ℃. Membrānas materiālam tika izvēlēts melns granulēts Ti 2 O 3 ar tīrības pakāpi 9 9. 99%. Cc - 1 05 aukstā katoda jonu stars tika izmantots papildu nogulsnēšanai. Nosēdināšanas laikā vakuuma kamera tika piepildīta ar O 2 ar tīrības pakāpi 9 9. 99% kā reakcijas gāzi. Pirms pārklāšanas pamatni notīra ar stikla šķīdumu, izskalo ar dejonizētu 0010010 nbsp; ūdens un žāvē ar slāpekli. Pēc tam substrātu notīra ar 99. 9% acetona un bezūdens etanola ultraskaņas viļņu katra 15 min. Pēc žāvēšanas ar speciālu salveti papīru tas tiek ievietots vakuuma kamerā. Kad vakuums ar mehānisko sūkni un difūzijas sūkni tiek iesūknēts uz {{5}}. 5 × 10-4pa, tiek iestatīts automātiskais galvanizācijas process. Kad pamatne tiek uzkarsēta līdz nogulsnēšanas temperatūrai 1 5 0 ℃, jonu avots sāk bombardēt substrātu, un enerģija tiek kontrolēta ar {{5}} 0 ~ 9 0 eV 10 min.

tad elektronu lielgabals automātiski sāk sildīt un iztvaikot plēves materiālu, un nogulsnēšanas ātrums ir 0. 38 ~ 0. 42 nm / s. Kad plēve ir novietota līdz paredzētajam 440 nm biezumam, programma automātiski aizver elektronu pistoli un galvanizācija ir pabeigta. Pēc pārklāšanas vakuuma kamera tika atdzesēta līdz istabas temperatūrai un paraugs tika izņemts. Parauga TiO 2 spektrālais tests tika veikts ar Lambda 900 (testa diapazons 175 ~ 3 300 nm) spektrofotometru. TiO 2 plēves faktiskais biezums, ekstinkcijas koeficients un refrakcijas koeficients tika aprēķināti ar programmatūras Macleod apvalka metodi. Dažādu vakuuma grādu ietekme uz plēvi veidojošo kvalitātiy, TiO 2 refrakcijas koeficients un absorbcijas koeficients tika pētīti ar dažādām augstas tīrības pakāpes skābekļa plūsmām vakuuma kamerā. Kad TiO 2 plāna plēve tiek iztvaicēta, izmantojot jonu avotu augstā vakuuma pakāpē, vakuuma pakāpes izmaiņas ar skābekļa pāreju ir uzskaitītas nākamajā tabulā. Tā kā skābekļa molekulas vakuuma kamerā tiek jonizētas skābekļa jonos un pilnībā reaģē ar Ti {{2}} O 3 tvaika molekulām, skābeklis, kas tiek zaudēts, sadaloties Ti {{{{4 4} }}} O 3 tiek papildināts, un iegūtais TiO 2 filmā ir salīdzinoši tīrs. Tomēr, ja skābekļa padeve ir nepietiekama vai ja reakcija starp Ti {{2}} O 3 un O 2 ir nepietiekama, tino oksīda plēve ar augstu absorbcijas pakāpi {{{{{ 4}}}} n - 1 (n=1, {{2}}, ..., 1 0). Palielinoties skābekļa plūsmai, palielinās sadursmes varbūtība starp TiO 2 tvaika molekulām un skābekļa molekulām iztvaikošanas procesā un tiek zaudēta enerģija, kas samazina uz pamatnes nogulsnētā TiO 2 kinētisko enerģiju. virsmas un ietekmē nogulsnētās plēves adhēziju un blīvumu. Plānajām optiskajām plēvēm jonu avota palīglīdzekļi var palielināt molekulu kinētisko enerģiju uz pamatnes virsmas, tas ne tikai būtiski ietekmē plēves refrakcijas koeficientu, bet arī var uzlabot plēves blīvumu un mitruma izturību, kā arī plēvi ievērojami uzlabojas arī saķere ar pamatni.

IKS-OPT2700 optical E-gun vacuum coating machine，more details,contact: iks.pvd@foxmail.com